Medição da vazão de gás comprimido puro

Medição não intrusiva da vazão de ar puro, nitrogênio, argônio e hélio
Medição da vazão de gás comprimido puro

Monitoramento de gases puros de alto custo na fabricação de semicondutores

Na fabricação de semicondutores, os gases comprimidos de alta pureza, como nitrogênio (HP N2), argônio (HP Ar), hélio (HP He) e ar limpo e seco (CDA), desempenham papéis cruciais em vários processos. O nitrogênio é geralmente usado na purga e inertização para evitar oxidação e contaminação. O argônio é essencial na gravação por plasma e na pulverização catódica devido às suas propriedades inertes, garantindo a remoção e deposição precisa de materiais. O hélio, com sua condutividade térmica excepcional, é essencial para sistemas de resfriamento e detecção de vazamentos. O ar puro, livre de contaminantes, é usado em ambientes de sala limpa para cumprir rigorosas normas de qualidade.

A medição da vazão desses gases de alto custo é fundamental para garantir o controle consistente de custos, o controle do processo, a eficiência e a segurança. O monitoramento preciso da vazão permite o fornecimento exato de gás, minimizando o desperdício e garantindo o desempenho ideal nos processos de fabricação.

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