Durchflussmessung von Reinstgasen

In der Halbleiterherstellung spielen hochreine Druckgase wie Stickstoff (HP N2), Argon (HP Ar), Helium (HP He) und saubere trockene Luft (CDA) bei verschiedenen Prozessen eine entscheidende Rolle. Stickstoff wird üblicherweise zum Spülen und Inertieren verwendet, um Oxidation und Verunreinigung zu verhindern. Argon ist aufgrund seiner Inert-Eigenschaften für die Plasmaätzung und das Sputtern unerlässlich und gewährleistet so eine präzise Materialbeseitigung und -ablagerung. Helium ist aufgrund seiner überragenden Wärmeleitfähigkeit entscheidend für Kühlsysteme und die Erkennung von Leckagen. Reine Luft, frei von Verunreinigungen, wird in Reinraumumgebungen verwendet, um strenge Qualitätsstandards einzuhalten.

Die Durchflussmessung dieser teuren Gase ist von entscheidender Bedeutung, um einheitliche Kostenkontrolle, Prozesssteuerung, Effizienz und Sicherheit zu gewährleisten. Präzise Durchflussüberwachung ermöglicht genaue Gaszufuhr, minimiert Abfall und gewährleistet optimale Leistung bei Herstellungsprozessen.