Nenhuma imagem disponível
Nenhuma imagem disponível
Sua solicitação está sendo processada.
DeltaV-P-CTO CHARM Field Enclosures

Invólucros de campo CTO CHARM DeltaV™

Product Description

Os invólucros de campo CTO CHARM DeltaV™ fornecem uma solução de pronta entrega para execuções mais rápidas do projeto e custos de instalação reduzidos. Os invólucros de campo são produtos testados de fábrica e prontos para instalação no campo. O Electronic Marshalling elimina as tarefas tradicionais do design de E/S e permite a ligação de cabeamento de campo para iniciar muito antes das estratégias de controle serem finalizadas.

Material
Chapa de aço revestida em pó –1,5 mm. Cor RAL7035
Dimensões
800 mm (L) x 1000 mm (A) x 300 mm (P)
Acesso
Porta simples, articulada para a esquerda
Categoria de proteção
IP 66 – NEMA4
Entrada do cabo
Inferior, não perfurada
Peso
~165 kg (may vary as per hardware added by option selection)
Requisitos de alimentação de energia
Alimentação primária e secundária de 24 VCC a ser fornecida externamente do invólucro de campo. Inclui distribuição de 24 VCC (primária e secundária) totalmente redundante sobre terminais de alimentação e disjuntores.
Rede de controle
Configured with one of the following control network systems:
Redundant Single Mode FO with Media Converter
Redundant Multi-Mode FO with Media Converter
Redundant Copper (RJ45)
IO Count / Type
Up to 96 IO
DCS - CIOC with Non IS, IS IO CHARMs

Distributed CHARMs:
CIOC with Non IS, IS CHARMs, DCS external 12 CHARM IO Junction Box
Name Plate
Outside Door: Laser engraved plastic
Temperatura de operação
-40 a 70 °C (-40 a 158 °F)
Temperatura de armazenamento
-40 a 85 °C (-40 a 185 °F)
Umidade relativa
5 a 95%, sem condensação
Choque
10 g ½ onda senoidal para 11 ms
Vibração
1 mm pico-a-pico de 5 Hz a 16 Hz, 0,5 g de 16 Hz a 150 Hz

Documentação e desenhos

Características

  • Oferece Electronic Marshalling habilitado pela tecnologia CHARMs
  • Reduz o impacto ecológico do sistema
  • Elimina cabos domésticos de E/S
  • Pacote totalmente documentado
  • Reduz significativamente a engenharia de design do painel.